В России будут выпускать чипы по технологии 20-летней давности

В России разработаны уникальные кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), предназначенные для производства интегральных микросхем с нормами 65 нм. Проект реализован научными институтами НИИМЭ и НИИТМ, сообщает издание «Ведомости».

Новое оборудование способно работать с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что позволяет российским специалистам занять лидирующие позиции на мировой арене.

НИИМЭ разработал чистые помещения и технологические процессы, в то время как НИИТМ создал необходимое оборудование. Замминистра промышленности Василий Шпак подчеркнул соответствие установок требованиям микроэлектроники и их модульную структуру.

В период с 2004 по 2006 год ведущие мировые производители внедрили 65-нм технологический процесс для изготовления базовых микросхем. Новое оборудование оказалось совместимым с текущими и будущими производственными линиями. В институтах подчеркивают важность разработки отечественных систем как ключевого элемента на пути к достижению технологической независимости.

Там также отметили дефицит финансирования программы развития электронного машиностроения в размере 33,1 млрд рублей. Сообщается, что это может привести к отставанию в научно-исследовательских и опытно-конструкторских работах (НИОКР) на 60 проектов к 2025 году. Несмотря на планы по увеличению финансирования в период с 2024 по 2028 годы, фактические расходы значительно не соответствуют запланированным, говорится в материале.