Китай создал собственную литографическую DUV-машину, работающую по техпроцессу 65 нм

Агентство Bloomberg сообщает, что в Китае местные производители оборудования для производства полупроводниковой продукции смогли заметно улучшить параметры своей иммерсионной литографической машины, работающей в DUV-диапазоне, несмотря на санкции со стороны США и ее союзников. С помощью собственных литографических машин Китай теперь может производить чипы по техпроцессу 65 нм. Ранее был доступен только техпроцесс 90 нм и более, такие литографические машины производила компания SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group).

Кроме официциального заявления китайских властей о создании литографической машины, позволяющей производить чипы по техпроцессу 64 нм, появились сведения инсайдеров о том, что до техпроцесса 28 нм уже недалеко, он вот-вот будет доступен.

Китайские производители чипов все еще зависят от зарубежных поставщиков, в частности, компании ASML. Но у этого нидерландского предприятия истекает торговая лицензия в Китай, и власти страны ее почти наверняка не продлят. Но теперь у Китая появились свои литографические машины, вполне сравнимые по параметрам с теми, что закупались в ASML (напомним, продажи EUV-литографических машин в Китай запрещены, была доступна только DUV-литография).